总的来说，第四代光刻机技术指标，是第三代euv的二十倍左右。

这就好比马车和火车的迭代，差距是全方位的，更短的波长只是一种表象，最惊人的创举在于，星辰科技突破了曝光功率的物理限制。

普通百姓们或许并不清楚，从第一代到第三代光刻机，其实都是大力出奇迹的结果。

就拿第三代euv来说，极紫外光是超大功率的电老虎，250w的机台每工作一天，就要耗费高达三万度的电力，而且还需要一套体积惊人的散热系统辅助。

技术不够，功率来凑，一直是光刻机发展的逻辑，在星辰科技之前，没有任何企业真正解决过这个问题，工程师们的思路通常简单粗暴，他们想要更精确地曝光效果，就不断的提高功率，制造更大的光源发生器，打磨更精良的透镜。

星辰科技之所以能够彻底解决问题，是因为他们没有延续大功率光源过爆的传统，而是直接采用了投入，发挥自己天马行空的想象力，从科学讲到文学，又从贸易争端讲到了滚滚而来的大历史。

“高精密激光刻蚀，精确到了什么程度呢？”罗佳笑着说道：“精确到连空气都容不下的程度，曝光过程中，甚至不能有任何气体介入，按照原本的做法，要用超纯去离子水，填充芯片之间的空隙，这就是大名鼎鼎的浸没式光刻技术，你们现在用的海思麒麟cpu，英特尔cpu，高通骁龙cpu，都是用浸没式光刻技术制作的。”

“浸没式光刻技术很强大，但也非常可惜，这项技术的专利，全部掌握在荷兰asl和霓虹尼康的手里，后发科技企业难做啊，很显然，尼康和asl不会把专利卖给我们的，所以我们不得不研发自己的曝光填充技术。”

“你们知道更扯淡的是什么吗？想达到高精密隔绝填充技术，首先需要超精密步进扫描技术，以监控不断流动的水分子！”

“所以，我们又派了一支团队去搞扫描器…”

罗佳侃侃而谈，他的演讲里有许多干货，也有许多有趣的小故事，这些小故事并不都是欢乐，也有许多心酸在其中。

研发之难是普通人永远无法想象的，为了绕开西方专利，光刻机团队做了数不清的工作，假设星辰科技是一家韩国企业，只怕早两年就能拿出光刻产品，因为西方并不对韩国执行技术封锁。

而我国，很多技术是花钱也买不到的，很多专利是西方永远不会授权给我们的。