直到，来到了一个新的项目组。

杨振只是简单的几句话，就让他忍不住破防了……

“昆仑……竟然早就开始研发纳米印压微影技术了，还造出了原型机？”

什么是纳米压印技术？

说白了，就是一种新型的微纳加工技术。

也就是通过机械转移的手段，在保持其超高分辨率的情况下，通过光刻胶辅助，将模板上的微纳结构，转移到待加工材料上的技术。

毫不夸张地说，这就是一种有望取代传统光刻技术，成为微电子、材料领域的重要加工手段的技术。

它最初，是由普林斯顿大学的周郁（Stephen·Y·Chou），在1995年提出来的概念。

也就此揭开了纳米压印制造技术的研究序幕。

第一个试水者，就是东洋的佳能。

它早在2004年，就开始秘密涉足这一领域了。

按照原有的发展轨迹，将会于2017年，联合铠侠，正式启动试制设备的运行，然后于2021年，拿出了实用化时间表，最终在两年后，推出了真正的纳米压印半导体制造设备。

不过，那时候只能生产10纳米的存储芯片。

直到2026年，才终于实现了5纳米的逻辑芯片制造……

当然了，再来一次，结果肯定是完全不一样了。

当前这会儿，传统的芯片制造工艺流程中，还是以DUV光刻机为核心的生产方式呢。

EUV都还没有出来呢，工艺制成，也仅仅才发展到45纳米上，主流设备，还是以浸润式光刻机最为先进。

所以，纳米压印技术随便搞搞，就能轻松达到10纳米级别了。

做个原型机，那还不是跟玩儿似的……

“景老是行内人，对于传统的芯片制造工艺流程，更是专家中的专家，所以，我就不班门弄斧了。

“而这种纳米印压微影技术，说白了，就是取代传统流程中，涂敷光刻胶、曝光、显影三大光刻步骤的。

“也就是说，它取代了光刻机，把原先由利用光线将电路图案刻到晶圆上的方式，换成了像盖章那样，压印在了晶圆上的模式。”

他说的很简单，但实际上，整个过程的实现，肯定是不会这么轻巧的。

而且相对而言，在传统芯片制造上，光刻机的重要性是毋庸置疑的，也复杂无比。

首先，要制作光罩，也就是对电子回路刻画在几十张玻璃板上；

然后准备作为制作芯片的衬底晶圆片，先加热晶片使其表面形成氧化膜，再涂上光刻胶，用以改变化学性质的方式，让晶圆成为“相纸”；

光刻胶也是分为正胶和负胶的，前者会在受光后分解并消失，留下未受光区域的图形，而后者，则会在受光后聚合，并让受光部分的图形显现出来。

这个过程，就是曝光和显影了。

而且，处理一个晶片，还不是一次就能完事儿，基本上会来好几次，多重曝光还会达到十次以上。

由此可见，光刻在整个芯片制造过程中的重要性了。

事实上，它也是最昂贵的工艺步骤，其成本，占总成本的30%以上，同时也占据了50%的生产周期。